蒙层 Stage Mask

蒙层（Stage Mask，也可理解为舞台遮罩）Block 可以在舞台上覆盖一层颜色、渐变或纹理，也可以按指定形状裁剪场景和立绘。它适合制作聚光灯、望远镜视野、局部遮挡、异形画框和氛围滤镜。 与用于整屏开合过渡的幕布不同，蒙层可以自由设置位置、尺寸、形状和层级。

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基本用法

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覆盖蒙层与对象裁剪

覆盖蒙层有四个显示层级：场景后、底层、顶层和最顶层。需要遮住对话界面时必须使用「最顶层」；「顶层」仍位于对话界面下方。只想影响舞台内容时优先使用较低层级，并在预览中确认效果。 对象裁剪可以作用于全部场景、全部立绘、整个舞台，或指定场景、场景图层和角色。选择「指定对象」后，在目标列表中勾选需要裁剪的内容。

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形状与可见区域

蒙层支持矩形、圆角矩形、椭圆和自定义图片四种形状。位置和尺寸按设计画布的百分比保存，因此更换预览窗口大小时仍会保持相对位置。 「保留内部 / 保留外部」决定原画面哪一侧继续可见：

• 保留内部：形状内部可见，外部被覆盖或裁掉。黑色覆盖蒙层配合椭圆形状即可制作聚光灯。
• 保留外部：形状外部可见，内部被覆盖或裁掉，适合挖洞或隐藏局部。

羽化会软化形状边缘。数值越大，过渡越柔和；需要清晰画框时保持为 0。

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自定义图片形状

选择图片形状后，可以使用 PNG 或 WebP 素材，并设置：

• 透明度通道：按图片透明区域生成形状，适合带透明背景的图案。
• 亮度通道：按黑白明暗生成形状，适合灰度遮罩图。
• 拉伸 / 铺满 / 完整：控制图片在蒙层范围中的适配方式。

图片形状决定蒙层边界；覆盖模式中的「纹理填充」决定蒙层覆盖区域实际绘制的图案，两者可以分别选择不同素材。

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边缘与外观

覆盖蒙层可以使用三种填充： 还可以按需启用模糊、暗角、噪点和调色效果。对象裁剪只支持边缘羽化，不提供这些填充和附加效果。

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在剧情中改变蒙层

需要在后续剧情改变蒙层时，再添加一条「蒙层」，保持「显示蒙层」，然后设置新的模式、形状或外观。运行到这里时，当前蒙层会更新为新的效果。 新版可视化检查器会自动管理当前蒙层。

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移除蒙层

在需要关闭效果的位置再添加一条「蒙层」，选中后在检查器顶部切换到「移除蒙层」：

• 退场时长控制淡出时间；设为 0 时立即移除。

切换后只需设置退场时长。

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典型用法

• 角色聚光：覆盖蒙层、椭圆、保留内部、黑色高强度填充，再把椭圆移到角色位置并增加羽化。
• 望远镜视野：覆盖蒙层、自定义图片或双圆图案、保留内部，在较高层级显示。
• 异形立绘：对象裁剪、指定角色、自定义图片形状，使用透明度通道控制边界。
• 夜景氛围：覆盖蒙层、整屏矩形、渐变或纹理填充，再小幅调整色相、饱和度和亮度。