v1.9.2 补全了立绘进退场演出,加入章节批量整理和可配置的 Studio 快捷键,并扩展了镜头、扩展工坊与 SDK 能力。这里仅汇总可以直接使用的新功能;性能优化和问题修复请查看完整更新日志

创作与演出

完整立绘演出

在「立绘发言状态」中统一配置入场、退场、发言状态和空间镜头,可直接选用滑入、弹入、聚焦、揭示、溶解等动效。

章节批量整理

在剧本树中连续或逐个多选章节,再整组拖拽排序、移入目录,或用所选章节新建目录。

Studio 快捷键

在设置中添加、移除、禁用或恢复 Studio 工作台快捷键,绑定保存在本机。

项目历史配置

开关自动项目历史,并把仅在内容改变时创建快照的检查间隔设为 1–120 分钟。

动态光束与聚光灯

为镜头加入平行光、点光源或定向聚光灯,调节方向、流速、密度、锥形角度和衰减距离。

工坊与扩展开发

工坊详情与投稿增强

详情页可渲染 README、浏览公开源码、跳转仓库和放大截图;投稿支持多标签、截图拖放与 README 图片。

Node 原生能力

本地和项目扩展可通过 ctx.native.node 加载显式 node: 内置模块;工坊版本需要发布资格和逐版本审核。
旧项目打开后仍会保留原有立绘演出语义。需要使用新版进退场配置时,在「立绘发言状态」检查器中按提示升级规则。